22纳米前不久，北斗号芯片成突破了22纳米的限，而上海微电子技术也再次获得突破，成研发出了22nm的光刻机。从技术角度来讲，虽然国获得的突破和外国技术相比，还有定差距，但从整体进程来看，国半导体行业和外国的差距正在慢慢减。
光刻机是作芯片并不可少的重要工具，大都知，光刻机技术几乎被荷兰ASML所垄断，那么全球的光刻机是少nm的？现在又能够出几nm的芯片呢？目前全球的光刻机已经可以实现5nm的工艺程了，它是荷兰ASML司的极紫外光刻机（EUV），是目前全球最的光刻机设备。目前的光刻机应该是22nm的，它的关键部件可以实现国产化了。但已经可以实现14nm芯片的量产了，这是中芯取得的个重大成绩。
光刻机是种用于造微电子芯片的关键设备，它的分辨率通常以纳米为单位。目前，主流的光刻机已经发展到了纳米级别，的光刻技术可以实现10纳米以下的分辨率。随着技术的不断进步，未来光刻机的分辨率有望进步提高，以满足更高精度和更尺寸的芯片造需求。
青岛光刻机的纳米级别取决于具体型号和技术水平。目前，青岛光刻机的纳米级别主要集中在10纳米以下。
随着科技的不断进步，青岛光刻机的纳米级别可能会进步提高，以满足更高精度和更尺寸的芯片造需求。青岛光刻机在半导体行业中扮演着重要角色，为芯片造提供了关键的工艺支持。
目前，世界上主流的光刻技术已经达到了7纳米的水平。随着技术的不断进步，光刻技术正在向更的尺寸迈进，预计未来几年内将会推出5纳米甚至更的光刻技术。这将为半导体行业带来更高的集成度和更强的性能，促进科技的发展。
